본교가 나노기술 국산화에 팔을 걷어 붙였다. 본교는 지난 3일, 포항공대 가속기연구소(이하 가속기연구소)와 '극자외선 노광빔라인 건설 및 운영협약'을 체결했다. 이로써 65나노미터 이하 차세대 노광기술을 국내 기술로 개발 및 상용화할 수 있는 길이 열렸고, 차세대 나노급 반도체 생산공정 연구에도 새로운 전기가 마련될 것으로 관계자들은 내다보고 있다.

 본교와 산업자원부는 이번 협약을 통해 향후 3년 간 가속기연구소에 5억 7천만원을 투자하기로 했다. 이를 통해 가속기연구소는 극자외선 노광기술용 마스크 및 레지스트 개발·평가를 위한 '빔라인(beamline)'과 '노광평가설비(exposure tool)'를 갖추게 된다. 한편 삼성전자와 동진쎄미켐 그리고 본교와 서울대, 포항공대 등이 참가한 컨소시엄은 매년 약 33억원을 투자하는 '나노급 반도체용 극자외선 노광 핵심요소기술 개발'에도 이 설비를 활용할 계획이다.

 극자외선 노광빔라인이란 오는 2008년부터 상용화가 기대되는 극자외선 노광기술(EVU lithography : Extream-Violet Lithography)을 활용, 64기가비트 이상 차세대 나노급 반도체 생산공정에 이용되는 시설을 말한다. 안진호(공대·신소재) 교수는 "지금까지 사용돼 오던 가시광이나 자외선 노광기술로는 4기가 D램 이상의 반도체 개발이 어려웠다"며 "하지만 극자외선 노광기술이 도입될 경우 이 같은 한계를 뛰어넘을 수 있을 것이다"고 전망했다.

 이번 협약을 통해 본교와 가속기연구소는 마스크의 결함검사, 감광제(photo-resist)의 성능검사, 실험용 소자 제작 분야 등에 이 설비를 활용, 반도체 분야의 경쟁력을 극대화시킬 수 있게 됐다. 극자외선 빔라인은 미국, 일본, 유럽 등 반도체 선진 국가에서만 보유한 첨단 기술로, 국내에 설비가 완성되면 반도체 소자 및 장비재료 개발 뿐 아니라 65나노미터 이하 극미세 NT와 BT 분야에서의 활용도 가능할 것으로 기대되고 있다. 한편 빔라인이 준공되면, 본교는 운영 시간의 50퍼센트를 이용하고 나머지 시간은 대학과 연구소, 산업체 등에서 이용할 수 있도록 개방키로 합의한 것으로 알려졌다.