12월 27일 <전자신문>은 한양대가 삼성과 함께 펠리클 공동 검증에 나섰다는 내용을 전했습니다. 펠리클은 먼지로부터 마스크를 보호하는 부품인데요. 당초 업계에선 광원 출력을 최대한 보전하기 위해 EUV 노광 공정 때 펠리클을 사용하지 않으려 했습니다. 하지만 펠리클 없이는 먼지에 따른 마스크 손실이 너무 크다는 결론을 내려 최근 삼성전자를 중심으로 주요 업계가 EUV용 펠리클 개발에 적극 나서고 있습니다. 한양대는 이달 교내 클린룸에 펠리클 온도 변화를 관찰하기 위한 연구실을 꾸몄는데요. EUV 장비를 들여올 순 없었지만 최대한 비슷한 환경을 구현할 수 있도록 삼성전자 연구진과 협력했습니다. 이에대해 안진호 신소재공학부 교수는 "재료가 바뀌면 기초 물성에 관한 데이터베이스 구축이 중요하다"며 "1월부터 연구를 본격화할 것"이라고 말했습니다. 
 
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